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번호	제목
60	Block copolymer hybridized barium titanate particles for high k materials 강지혜, 양성윤, 정현민, 원종찬, 김용석 한국고분자학회 2009년 봄 학술대회
59	Atomic Layer Chemical Vapor Deposition of Hf-silicate Gate Dielectrics for Organic Thin Film Transistor Application 이승협, 용기중 한국화학공학회 2009년 가을 학술대회
58	High performance SnO₂ Nanowire FETswith high-k Al-doped TiO₂ gate insulator 박현희 한국화학공학회 2009년 가을 학술대회
57	ALD를 이용한 Hf silciate 박막의 조성에 따른 전기적 특성연구 이동원, 서동찬, 고대홍, 조만호, 김형섭 한국재료학회 2009년 가을 학술대회
56	Atomic layer deposition을 이용한 Hf-silicate 박막 증착과 이를 이용한 펜타센 박막 트랜지스터의 성능 향상 이승협, 용기중 한국재료학회 2009년 가을 학술대회
55	S-termination된 Ge(100)표면에 증착된 ALD HfO₂ 특성 임경택, 이영환, 윤미현, 임상우 한국화학공학회 2009년 봄 학술대회
54	Ge표면상의 SAM passivation이 high-k deposition에 미치는 영향 임경택, 박기병, 윤미현, 임상우 한국화학공학회 2009년 봄 학술대회
53	Electrical characterization of interface and bulk traps in Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistors with hafnium based dielectric Tea Wan Kim, Rino Choi, Tae Young Jang 한국재료학회 2009년 봄 학술대회
52	Morphology controlled self organized TiO₂ nanoparticles as a high-k dielectric for flexible thin film transistor 히마드리, 성진우, 이근탁, 김태희, 민병길, 박철민 한국고분자학회 2008년 가을 학술대회
51	Electrical Properties of Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition HfO2/HfOxNy/HfO2 Gate Oxide 맹완주, 김형준 한국재료학회 2008년 가을 학술대회