화학공학소재연구정보센터
번호 제목
50 Properties of lanthanum oxide deposited by electron cyclotron resonance atomic layer deposition
Byung-woo Kang, Woong-sun Kim, Dae-yong Moon, Jong-wan Park
한국재료학회 2008년 가을 학술대회
49 Ruthenium Thin Films Grown by Atomic Layer Deposition
Woong-Chul Shin, Kyu-Jeong Choi, Hyun-June Jung, Soon-Gil Yoon, Soo-Hyun Kim
한국재료학회 2008년 가을 학술대회
48 Electrical properties of Zr-doped TiO2 thin films for DRAM capacitors
권 혁, 박현희, 하정숙
한국화학공학회 2008년 봄 학술대회
47 Electrical and Optical Properties of Fluorocarbon Films Deposited in C4F8 Plasmas
박병훈, 권혁규, 산토시구마르마하파트라, 김창구
한국화학공학회 2008년 봄 학술대회
46 CMOS SCALING AND GATE STACK TECHNOLOGY PROGRESS
최리노
한국재료학회 2008년 봄 학술대회
45 반도체 세정기술의 개발 동향
백귀종
한국공업화학회 2008년 가을 학술대회
44 Nonvolatile charge trap memory devices using ordered arrays of cobalt nanocrystals from diblock copolymer micelles
이장식, 이재갑, 손병혁
한국고분자학회 2007년 봄 학술대회
43 In-situ diagnosis of tantalum precursors using Fourier transform infrared (FT-IR) spectroscopy
Sukhoon Kim, Moonkyun Song, Shi-Woo Rhee
한국재료학회 2007년 가을 학술대회
42 The Electrical Characteristics of TiO2/Al2O3/TiO2 nano-laminated thin film by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition
주대권, 전우진, 강상원
한국재료학회 2007년 가을 학술대회
41 Electrical properties of lanthanum hafnium oxide thin films deposited by electron cyclotron resonance atomic layer deposition
김웅선, 고명균, 김태섭, 박상균, 박종완
한국재료학회 2007년 가을 학술대회