| 번호 | 제목 |
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Solid phase reaction을 통해 제조한 HfSiON 의 특성|Characterization of HfSiON as gate dielectrics fabricated by solid phase reaction 고한경, 이태호, 김철성, 안진호 한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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MOMBE로 성장한 고유전 HfO2 박막의 전기적 특성|Properties of high-k HfO2 films grown by MOMBE 문태형, 함문호, 김명석, 윤일구, 명재민 한국재료학회 2004년 봄 학술대회 |
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MOCVD법을 이용하여 증착된 (Ba,Sr)RuO3 박막의 특성평가|CHARACTERIZATION OF (Ba,Sr)RuO3 FILMS DEPOSITED BY MOCVD 김병수, 김윤수, 김현철, 최덕균 한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
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CVD법으로 제작한 (1-x)Ta2O5–xTiO2 박막의 열처리 온도에 따른 특성변화|Characteristics of (1-x)Ta2O5–xTiO2 thin film at various annealing temperature by CVD 강필규, 진정근, 강호재, 노대호, 안재우, 변동진 한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
