화학공학소재연구정보센터
번호 제목
115 Plasma etching of SiO2 using perfluoropropyl vinyl ether
박진수, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2019년 봄 학술대회
114 Control of ozone concentration in dielectric barrier discharge system
신용선, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2019년 봄 학술대회
113 Plasma etching of SiO2 using hexafluoroisopropanol
박진수, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2018년 가을 학술대회
112 The use of TiO2 nanoparticles to reduce ozone concentration in dielectric barrier discharge system
신용선, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2018년 가을 학술대회
111 Plasma etching of SiO2 using low-GWP etchants
박진수, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2018년 봄 학술대회
110 Reduction of O3 concentration in a dielectric barrier discharge
김가연, 김창구
한국화학공학회 2018년 봄 학술대회
109 Use of heptafluoroisopropyl methyl ether for plasma etching of SiO2
박진수, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2018년 봄 학술대회
108 Effect of dielectric materials on characteristics of a dielectric barrier discharge system
박창진, 김창구
한국화학공학회 2017년 가을 학술대회
107 Electroless plating of copper on PET without using a seed layer
박창진, 김창구
한국화학공학회 2017년 가을 학술대회
106 Plasma etching for the fabrication of slanted Si rods as low reflection surfaces
김준현, 김창구
한국화학공학회 2017년 봄 학술대회