번호 | 제목 |
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GaAs 의 표면 처리 및 재산화에 따른 표면 종단 특성 변화 연구 이진훈, 서동완, 나지훈, 임상우 한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
30 |
반도체 세정에 사용되는 NF3의 ZrO2 촉매 상에서의 가수분해 반응 이진욱, 성연백, 이태훈, 김민정, 박창준, 최원영, 이태진, 박노국, 장원철 한국공업화학회 2015년 봄 학술대회 |
29 |
GaAs 의 습식 세정 공정 중 단계별 표면 처리에 따른 표면 종단 특성 변화 연구 이진훈, 오은석, 김솔바로, 임상우 한국화학공학회 2014년 가을 학술대회 |
28 |
IPA를 첨가한 세정액 내에서의 acoustic cavitation 거동 연구 김향란, 강봉균, 김민수, 박진구 한국재료학회 2013년 봄 학술대회 |
27 |
Direct synthesis of hydrogen peroxide over Pd core - shell catalysts 김성민, 이관영, 이대원 한국화학공학회 2011년 가을 학술대회 |
26 |
Nano size의 CO2 Gas cluster를 이용한 반도체 건식 세정에서 오염입자 제거와 미세 패턴 damage에 관한 연구 김민수, 강봉균, 이승호, 정지현, 윤덕주, 박진구 한국재료학회 2010년 가을 학술대회 |
25 |
메가소닉 주파수의 변화가 나노입자제거에 미치는 영향 김혁민, 강봉균, 이승호, 김정인, 이희명, 박진구 한국재료학회 2009년 가을 학술대회 |
24 |
Phase Behavior of Paraffin Wax In Various Solvent Systems And Extraction Of Paraffin Wax Binder 임준혁, 임종성 한국화학공학회 2009년 봄 학술대회 |
23 |
반도체 세정액 내 용존 수소 가스가 웨이퍼 세정에 미치는 영향 김혁민, 강봉균, 이승호, 박진구, 최은석, 김인정, 김봉우 한국재료학회 2009년 봄 학술대회 |
22 |
Cleaning of Silicon Wafer Surface by Ozonated Water Chemistries 이종혁, 백성훈, 임상우 한국화학공학회 2008년 봄 학술대회 |