| 18 |
The role of steady-state fluorocarbon film during SiO2 etching in C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasmas
조성운, 김창구
한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
| 17 |
Silanol terminated poly siloxane을 이용한 하드마스크에 관한 연구
유제정, 하지영, 이경균, 이성구, 김상범
한국공업화학회 2011년 봄 학술대회 |
| 16 |
유,무기 하이브리드 소재의 하드마스크 합성 및 건식각 특성에 관한 연구
송재동, 유제정, 김상범, 황석호, 이성구, 이경균
한국고분자학회 2010년 봄 학술대회 |
| 15 |
Effect of CH2F2 addition on angular dependence of SiO2 etching in a C4F6/O2/Ar plasma
조성운, 김창구
한국화학공학회 2010년 가을 학술대회 |
| 14 |
유무기 하이브리드 중합체를 이용한 하드마스크에 관한 연구
유제정, 이경균, 이성구, 황석호, 김상범
한국공업화학회 2010년 가을 학술대회 |
| 13 |
Hybrid hard mask with single layer to apply spin-on process
송재동, 유제정, 이성구, 이경균, 김상범
한국공업화학회 2010년 봄 학술대회 |
| 12 |
유·무기 하이브리드 소재의 고차구조 제어 기술
임순호, 장지영, 한미정, 홍순만, 엄문광, 황석호
한국고분자학회 2009년 봄 학술대회 |
| 11 |
Angular dependence of Si3N4 etch rates and SiO2 to Si3N4 etch selectivity in a C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasma
조성운, 이진관, 문상흡, 김창구
한국화학공학회 2009년 가을 학술대회 |
| 10 |
플라즈마를 이용한 GaAs 반응성 이온 식각 (Reactive Ion Etching of GaAs in BCl3 plasma)
이성현, 노호섭, 최경훈, 박주홍, 조관식, 이제원
한국재료학회 2009년 봄 학술대회 |
| 9 |
축전 결합형 O2 플라즈마를 이용한 아크릴과 폴리카보네이트의 식각 공정 비교 (Comparison of Capacitively Coupled O2 Plasma Etching of PMMA and Polycabonate at Different Process Regime)
박주홍, 이성현, 노호섭, 최경훈, 조관식, 이제원
한국재료학회 2009년 봄 학술대회 |
