| 번호 | 제목 |
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| 4 |
A study on the dry cleaning of patterned wafer using single-phase mixtures with supercritical carbon dioxide 한갑수, 임종성, 유기풍 한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
| 3 |
초임계 이산화탄소를 이용한 건식 웨이퍼 세정시 이산화탄소와 chemical간의 상거동 연구 김태형, 김진우, 한갑수, 임종성, 유기풍 한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
| 2 |
초임계 단일상 혼합유체를 이용한 반도체 패턴 웨이퍼상의 post-metal each residue 세정 연구 김진우, 강창일, 김태형, 한갑수, 임종성, 유기풍 한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
| 1 |
Process Development of Photoresist Removal from Commercial Silicon Wafers Using Supercritical Carbon Dioxide 유기풍, 한갑수, 김선영 한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
