| 번호 | 제목 |
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| 6 |
Synthesis of ArF photoresist via reversible addition-fragmentation chain transfer (RAFT) polymerization 손해성, 차상호, 이원기, 이종찬, 김명선, 윤효진, 백세경, 김수경, 함지윤, 김영호, 채승기, 이준경, 이재우, 김재현 한국공업화학회 2009년 봄 학술대회 |
| 5 |
Synthesis of ArF photoresist by reversible addition-fragmentation chain transfer (RAFT) polymerization 손해성, 차상호, 이원기, 이종찬, 김영호, 윤효진, 김명선, 백세경 한국고분자학회 2008년 가을 학술대회 |
| 4 |
Non-shrinkable photoresists based on camphor for ArF lithography 김진백, 오태환, 허윤희 한국고분자학회 2004년 봄 학술대회 |
| 3 |
ArF lithography에서 발생하는 patterning issue를 극복하기 위한 new lithography 방법에 대한 연구|Study on the new lithography scheme for overcoming the patterning issue be generated in ArF lithography process 황재성, 안진호 한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
| 2 |
Non-Shrinkable Photoresists for ArF Lithography 김진백;오태환;최재학;이재준 한국고분자학회 2003년 봄 학술대회 |
| 1 |
Molecular Resists Based on t-Butyl Cholate Derivatives for 193-nm Photoresists 김진백, 오태환, 권영길 한국고분자학회 2002년 가을 학술대회 |
