화학공학소재연구정보센터
번호 제목
3 ITO 표면의 O2 플라즈마 처리를 이용한 OLED의 성능 향상에 관한 연구|Studies on efficiency improvement of OLEDs using O2 plasma treatment on indium-tin-oxide
김형식, 이준호, 이태진, 김정문, 박진호|Hyoungsik Kim, Junho Lee, Taejin Lee, Jeongmoom Kim, Chinho Park
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회
2 N2 및 O2 플라즈마를 이용한 SiO2 2단계 증착 공정|SiO2 two step deposition using N2 or O2 plasma treatment
이청, 이시우|Chung Yi, Shi-Woo Rhee
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회
1 He/O2 플라즈마 전처리를 통한 산화막 계면 특성 개선 효과|The improvement effect of He/O2 plasma pretreatment for SiO2/Si interface property
김효욱, 이청, 이시우|Hyo-Uk Kim, Chung Yi, Shi-Woo Rhee
한국화학공학회 2000년 가을 학술대회