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The fabrication of 10nm scale complex patterns by repetitive secondary sputtering lithography and its display applications.
전환진, 정현수, 정희태
한국고분자학회 2012년 가을 학술대회 |
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Registration of Sub-10 nm Complex Patterns by Hierarchical Self-Assembly of Silicon-Containing Block Copolymers
손정곤
한국고분자학회 2012년 봄 학술대회 |
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The fabrication of 3-dimensional complex patterns with 10nm scale by secondary sputtering phenomenon
전환진, 정현수, 김종선, 정희태
한국고분자학회 2012년 봄 학술대회 |
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The fabrication of complex patterns with high resolution and high aspect ratio pver large area by repetitive secondary sputtering lithography
전환진, 정현수, 김종선, 정희태
한국화학공학회 2012년 봄 학술대회 |
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New route to complex patterns for nanotemplate via block copolymer self-assembly
김세원, 이진욱, 김승현
한국고분자학회 2011년 가을 학술대회 |
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Fabrication of complex patterns based on self-assembly of block copolymer
김세원, 이진욱, 이보미, 김승현
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
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Photoresponsive Behaviors of Well-Defined Rod-Coil Blcok Copolymers through Combination of Chain-Growth Condensation Polymerization and Atom Transfer Radical Polymerization
허재원, 서명은, 신선희, 김윤준, 김상율
한국고분자학회 2009년 봄 학술대회 |
