번호 | 제목 |
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13 |
nMOS capping layer La2O3의 습식 에칭 kinetics 및 mechanism 연구 오지숙, 배진성, 서동완, 임상우 한국화학공학회 2011년 가을 학술대회 |
12 |
nMOS high-k gate stack 형성을 위한 capping layer의 선택적 에칭 오지숙, 배진성, 서동완, 임상우 한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
11 |
pMOS gate stack capping layer의 고선택비 습식에칭 기술연구 오지숙, 윤미현, 임상우 한국화학공학회 2010년 가을 학술대회 |
10 |
The Characterization of N-channel Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect-Transistor (nMOSFET) with Sputtered SrTiO3-Doped HfO2 Gate Dielectrics 최창환 한국재료학회 2010년 가을 학술대회 |
9 |
High-k/capping layer의 Gate Stack Etch Post Cleaning 연구 오지숙, 임경택, 윤미현, 임상우 한국화학공학회 2010년 봄 학술대회 |
8 |
CMOS SCALING AND GATE STACK TECHNOLOGY PROGRESS 최리노 한국재료학회 2008년 봄 학술대회 |
7 |
Electrical characteristics of vertical type transistors using Alq3 and Bphen 김영도, 오세용 한국고분자학회 2007년 가을 학술대회 |
6 |
Nonvolatile charge trap memory devices using ordered arrays of cobalt nanocrystals from diblock copolymer micelles 이장식, 이재갑, 손병혁 한국고분자학회 2007년 봄 학술대회 |
5 |
C60을 사용한 수직형 유기박막 트랜지스터의 전극 종류에 따른 특성분석에 관한 연구 김영도, 황선각, 오세용 한국공업화학회 2007년 봄 학술대회 |
4 |
45nm 반도체 세정기술 조중근 한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 |