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Atmospheric-pressure Dielectric Barrier Discharge Plasmas for Surface Treatment 강우석, 김현수, 홍상희 한국공업화학회 2011년 가을 학술대회 |
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Characteristics of double cylindrical coils as aninductively coupled plasma source 신우식, 김창구, 김일욱, 우상호, 엄평용 한국화학공학회 2009년 봄 학술대회 |
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Three Dimensional Simulation of the Process Gas Flow Pattern in a Plasma Enhanced Rapid Thermal Processor for Process Performance Analysis 주상래, 이혜원, 서승택, 이광순 한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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Photo-resist Etching in Si(100) Wafer Cleaning through Large Area He/O2 and Ar/O2 Plasma Source at Atmospheric Pressure 정미희, 최호석 한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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Effects of thermal and H2 plasma treatments on the structural and optical properties of amorphous carbon nitride films grown by PECVD 김상훈, 옥치원, 한윤봉 한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
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Plasma Source Ion Implantation법을 이용한 금속 박막층과 Polyimide 계면 사이에 관한 연구|A study of Interfaces between Metal Layer Thickness Ion Implanted with Plasma Source Ion Implantation and Polyimide. 조본구, 이택영, 김용진 한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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임베디드 박막 캐패시터용 유전막의 플라즈마 처리 효과에 대한 연구|A Study on the Effect of Plasma Treatment on Dielectric Layer for the Application of Embedded Thin Film Capacitor 임성택, 송원훈, 강형동, 정율교 한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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ECR plasma etching을 이용한 2차원 photonic crystal structure 제작 및 특성평가에 관한 연구|A study on fabrication and evaluation of characteristics of 2-dimensional photonic crystal structure using ECR plasma etching 문강훈, 신수범, 안진호 한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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Plasma source와 RF power에 따른 NiO 박막의 우선배향성 및 표면형상|The Evolution of Preferred Orientation and Morphology of NiO Thin Films under Variation of Plasma Source and RF Power Hyunwook Ryu, Jinseong Park 한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
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Characterization of allylamine-plasma-polymerized film surface on solid substrate in rf discharge 명성운, 최호석 한국고분자학회 2003년 가을 학술대회 |