화학공학소재연구정보센터
번호 제목
11 Atmospheric-pressure Dielectric Barrier Discharge Plasmas for Surface Treatment
강우석, 김현수, 홍상희
한국공업화학회 2011년 가을 학술대회
10 Characteristics of double cylindrical coils as aninductively coupled plasma source
신우식, 김창구, 김일욱, 우상호, 엄평용
한국화학공학회 2009년 봄 학술대회
9 Three Dimensional Simulation of the Process Gas Flow Pattern in a Plasma Enhanced Rapid Thermal Processor for Process Performance Analysis
주상래, 이혜원, 서승택, 이광순
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회
8 Photo-resist Etching in Si(100) Wafer Cleaning through Large Area He/O2 and Ar/O2 Plasma Source at Atmospheric Pressure
정미희, 최호석
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회
7 Effects of thermal and H2 plasma treatments on the structural and optical properties of amorphous carbon nitride films grown by PECVD
김상훈, 옥치원, 한윤봉
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회
6 Plasma Source Ion Implantation법을 이용한 금속 박막층과 Polyimide 계면 사이에 관한 연구|A study of Interfaces between Metal Layer Thickness Ion Implanted with Plasma Source Ion Implantation and Polyimide.
조본구, 이택영, 김용진
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
5 임베디드 박막 캐패시터용 유전막의 플라즈마 처리 효과에 대한 연구|A Study on the Effect of Plasma Treatment on Dielectric Layer for the Application of Embedded Thin Film Capacitor
임성택, 송원훈, 강형동, 정율교
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
4 ECR plasma etching을 이용한 2차원 photonic crystal structure 제작 및 특성평가에 관한 연구|A study on fabrication and evaluation of characteristics of 2-dimensional photonic crystal structure using ECR plasma etching
문강훈, 신수범, 안진호
한국재료학회 2004년 가을 학술대회
3 Plasma source와 RF power에 따른 NiO 박막의 우선배향성 및 표면형상|The Evolution of Preferred Orientation and Morphology of NiO Thin Films under Variation of Plasma Source and RF Power
Hyunwook Ryu, Jinseong Park
한국재료학회 2003년 가을 학술대회
2 Characterization of allylamine-plasma-polymerized film surface on solid substrate in rf discharge
명성운, 최호석
한국고분자학회 2003년 가을 학술대회