화학공학소재연구정보센터
번호 제목
10 ICP를 이용한 BCl3/CH4/H2/Ar, Cl2/CH4/H2/Ar chemistries의 AZO와 ZnO 식각특성비교
이학주, 권봉수, 김현우, 김선일, 정호영, 노화영, 이내응
한국재료학회 2007년 가을 학술대회
9 기계적 펌프 기반의 축전 결합형 BCl3/N2와 Cl2/N2 플라즈마를 이용한 GaAs의 건식식각 비교
김재권, 노호섭, 주영우, 박연현, 박주홍, 조관식, 송한정, 이제원
한국재료학회 2007년 가을 학술대회
8 O2/SF6 플라즈마를 이용한 Poly ethylene terephthalate(PET)의 건식 식각에 관한 연구(Dry Etching of Poly ethylene terephthalate(PET) in O2/SF6 Plasmas)
박연현, 주영우, 김재권, 백인규, 이진희, 이제원, 조관식
한국재료학회 2007년 봄 학술대회
7 SF6/O2 혼합 가스를 이용한 Cyclo Olefin Copolyer의 건식 식각 (Plasma Etching of Cyclo Olefin Copolyer in SF6/O2 gas mixture)
백인규, 김재권, 박연현, 주영우, 조관식, 이제원, 정필구, 고종수
한국재료학회 2007년 봄 학술대회
6 OES를 이용한 평판형 유도결합 BCl3/SF6 플라즈마 식각 특성 연구|A Study of Etching Characteristic in Planar Inductively Coupled BCl3/SF6 Plasma by OES
박민영, 이제원, 장수욱, 노호섭, 조관식, 박강수, 박건수, 윤진성
한국재료학회 2005년 가을 학술대회
5 평판형 유도결합 BCl3/CF4 플라즈마를 이용한 GaAs/AlGaAs 선택적 건식 식각|Selective Dry Etching of GaAs over AlGaAs in a Planar Inductively Coupled BCl3/CF4 Plasma
유승열, 장수욱, 박민영, 이장희, 노호섭, 임완태, 이제원, 조관식, 전민현, 송한정, 백인규, 권민철
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
4 평판형 유도결합 플라즈마를 이용한 GaAs/AlGaAs 및 GaAs/InGaP의 선택적 및 비선택적 건식식각의 비교|Comparison of Selective and Non-Selective Dry Etching of GaAs/AlGaAs and GaAs/InGaP using Planar Inductively Coupled Plasmas
박민영, 최충기, 류현우, 노호섭, 문준희, 유승열, 임완태, 이제원, 조관식, 전민현, 송한정, 백인규, 권민철, 박건수, 윤진성
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
3 원자층 증착 방법에 의한 실리콘 질화막 특성에 관한 연구|The Characteristics of Silicon Nitride Thin Film by Atomic Layer Deposition
천민호, 한창희, 김운중, 이원준, 이연승, 나사균
한국재료학회 2004년 가을 학술대회
2 고종횡비 실리콘 트랜치 건식식각 공정에 관한 연구|Profile control of high aspect ratio silicon trench etch using SF6/O2/BHr plasma chemistry
함동은, 신수범, 안진호
한국재료학회 2003년 가을 학술대회
1 C2F6 및 NF3 유도결합플라즈마를 이용한 SiO2 : Ge 식각에관한 연구|Inductively coupled plasma Reactive ion etching of Ge doped silica glass using C2F6 and NF3
이 석 룡, 문 종 하, 김 원 효, 이 병 택
한국재료학회 2003년 가을 학술대회