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Ru 하드 마스크를 이용한 Al 박막의 건식 식각
민수련, 조한나, 임성근, 정지원
한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 |
| 9 |
COT-OLED 에 사용되는 투명전극(ITO)의 특성 향상을 위한 연구
정동훈, 박민, 주승기
한국재료학회 2006년 가을 학술대회 |
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EBL (Electron-Beam Lithorgaphy)을 이용한 Nanoimprinting용 Quartz Master제작
박정갑, 정근희, 나석민, 서수정
한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
| 7 |
고밀도 유도결합 플라즈마를 이용한 IrRu 박막의 식각 특성
이장우, 박익현, 정지원
한국공업화학회 2005년 가을 학술대회 |
| 6 |
고밀도 플라즈마를 이용한 TiN 박막의 반응성 이온 식각
민수련, 정지원, 이장우, 박익현
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
| 5 |
Amorphous silicon hard mask 를 이용한 high selectivity pattern 구현|Fabrication of high selectivity patterns using an a-Si hard mask
조민수, 차남구, 박창화, 임현우, 박진구
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
| 4 |
High Density Plasma Etching of Hard Mask Materials of SiO2, α-C:H, and ZnO
라현욱, 옥치원, 이 석, 김상훈, 한윤봉
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
| 3 |
ArF lithography에서 발생하는 patterning issue를 극복하기 위한 new lithography 방법에 대한 연구|Study on the new lithography scheme for overcoming the patterning issue be generated in ArF lithography process
황재성, 안진호
한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
| 2 |
SiO2 hard mask를 이용한 자성 박막의 건식 식각
송영수, 신 별, 정지원
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
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GaN-based 발광소자에서 식각 속도에 기인한 PECVD 산화막 증착 조건에 관한 연구|Effect of Deposition Condition of PECVD SiO2 on Etch Rate for GaN-based LED
최창선,김태희,홍주형,박형조,한윤봉|C. S. Choi,T. H. Kim,J. H. Hong,H. J. Park,Y. B. Hahn
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회 |
