| 번호 | 제목 |
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| 4 |
Ultra high etch selectivity and variation of line edge roughness during etching of silicon oxynitride with patterned extreme ultra-violet resist resist in dual-frequency capacitively coupled plasmas 권봉수, 이정훈, 이내응 한국재료학회 2010년 가을 학술대회 |
| 3 |
Relationship between the acid diffusion length and line edge roughness in photoresists 김재현, 김영호, 김태성 한국고분자학회 2005년 가을 학술대회 |
| 2 |
Effect of water-contact on the roughness of patterned photoresist investigated by AFM analysis 안성일, 김재현, 진왕철 한국고분자학회 2005년 가을 학술대회 |
| 1 |
ArF lithography에서 발생하는 patterning issue를 극복하기 위한 new lithography 방법에 대한 연구|Study on the new lithography scheme for overcoming the patterning issue be generated in ArF lithography process 황재성, 안진호 한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
