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번호	제목
73	Run-to-Run Control of Inductively Coupled C₂F₆ Plasma Etching of SiO₂: Multivariable Controller Design and Numerical Application 서승택, 이광순, 양대륙, 최범규 한국화학공학회 2005년 가을 학술대회
72	Three Dimensional Simulation of the Process Gas Flow Pattern in a Plasma Enhanced Rapid Thermal Processor for Process Performance Analysis 주상래, 이혜원, 서승택, 이광순 한국화학공학회 2005년 가을 학술대회
71	공초점 현미경을 이용한 RAW 264.7 세포 괴사의 단세포, 실시간 형광이미지 관찰 황상연, 이문권, 이은규 한국화학공학회 2005년 가을 학술대회
70	Non-catalytic growth of ZnO nanostructures on silicon by vapor-solid mechanism: structural and optical properties Umar Ahmad, 김상훈, 임용환, Ahsanulhaq, 라현욱, 한윤봉 한국화학공학회 2005년 가을 학술대회
69	N₂ plasma 처리에 따른 유기태양전지의 특성 변화 연구 설지윤, 박진호, 하스나인, 여석기 한국화학공학회 2005년 가을 학술대회
68	Oxygen plasma treatments of ITO surface to improve the performance of OLEDs 장선기, 채희엽, 이재원 한국화학공학회 2005년 가을 학술대회
67	ZnO : Al 투명전도막의 구조적, 전기적 특성에 산소가 미치는 영향\|Influence of oxygen flow ratio on the structural and electrical properties of ZnO:Al thin films using D.C reactive magnetron sputtering method 문연건, 김쇄현, 정창오, 박종완 한국재료학회 2005년 가을 학술대회
66	이온챔버와 필름 선량계의 비교를 통한 양성자빔 선량 측정 방법 연구\|Study of proton beam dosimetry by comparison of film dosimeters and calibrated ionization chamber 박범식, 김계령, 최병호 한국재료학회 2005년 가을 학술대회
65	Dry Etching of SiO₂ with C₂F₆ Plasma in an ICP Process: Numerical Study with a CFD Code 서승택, 이광순, 양대륙, 최범규 한국화학공학회 2005년 봄 학술대회
64	전산유체해석기법을 이용한 NCC 공정에서의 TLX chamber 개선 효과 탁현오, 윤도영, 박병기, 이환석 한국화학공학회 2005년 봄 학술대회