| 95 |
Effect of O2 flow rates on the electrical properties of tin oxide films by LPCVD
김창구, 박정근, 김준현
한국화학공학회 2015년 가을 학술대회 |
| 94 |
Control of the electrical resistivity of Ni-Fe wires for fusible resistors
이경미, 강두원, 김창구, 김준현, 박정근
한국화학공학회 2015년 가을 학술대회 |
| 93 |
Effect of temperatures on the electrical resistivity of Ni-Cr wires
이경미, 강두원, 김창구, 김준현, 박정근
한국화학공학회 2015년 가을 학술대회 |
| 92 |
Etch mechanism of Si3N4 in a C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasma
조성운, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
| 91 |
Angular dependence of Si3N4 etch rates in fluorocarbon plasmas
김준현, 조성운, 김창구
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
| 90 |
Effect of bias voltage on the angular dependence of SiO2 etch rates in C4F8 plasmas
김준현, 조성운, 김창구
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
| 89 |
A cyclic process to control the diameter of SiO2 contact holes
조성운, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
| 88 |
Surface treatment to control the electrical resistivity of metal
박정근, 김준현, 조성운, 김창구, 강두원, 이경미, 백창용
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
| 87 |
Effect of gas composition on the angular dependence of SiO2 etch rates in fluorocarbon plasmas
박정근, 김준현, 조성운, 김창구
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
| 86 |
Control of the contact hole diameter in C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasmas
조성운, 김창구
한국화학공학회 2014년 가을 학술대회 |
