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초임계 이산화탄소를 이용한 건식 웨이퍼 세정시 이산화탄소와 chemical간의 상거동 연구 김태형, 김진우, 한갑수, 임종성, 유기풍 한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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초임계 단일상 혼합유체를 이용한 반도체 패턴 웨이퍼상의 post-metal each residue 세정 연구 김진우, 강창일, 김태형, 한갑수, 임종성, 유기풍 한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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Measurements and Correlation of High-Pressure VLE of Binary CO2-Isopropanol System 정연근, 김진우, 임종성, 유기풍 한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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고압하에서 CO2와 2-Propanol 혼합물의 상거동 연구 정연근, 김진우, 임종성, 유기풍 한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
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초임계 이산화탄소를 이용한 건식 웨이퍼 세정시 이산화탄소와 chemical간의 상거동 연구 김태형, 김진우, 임종성, 유기풍 한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
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반도체 습식 세정 공정중 SC1 세정 용액에 킬레이팅 에이전트 첨가에 의한 오염 입자와 금속 오염물 제거 효과|Removal of Particles and Metal Impurities by adding of Chelating Agent onto SC1 Cleaning Solution in Semiconductor Wet Cleaning Process 이승호, 이상호, 권태영, 박진구, 배소익, 김인정, 이건호 한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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반도체세정 기술개발 정책|반도체세정 기술개발 정책 안동준, 최근민 한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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RF 플라즈마를 이용한 Si wafer 유기화합물의 제거실험에 관한 연구 정미희, 최호석 한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
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Pd/C 촉매를 이용한 Maleic anhydride로부터 GBL의 합성 이미진, 이원묵, 이철우 한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
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3-D PTV 기술 및 CFD code를 이용한 반도체 세정 Bath내의 유동현상 측정 및 해석|The Measurement and Analysis of Phenomenological Fluid Motion in the Cleaning Bath for Semiconductor Process Using 3-D PTV Technique & CFD 강운용, 이민수, 함승주, 박헌휘|Woon-Yong Kang, Min-Soo Lee, Seung-Joo Haam, Hun-Hyee Park 한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |