화학공학소재연구정보센터
번호 제목
11 초임계 이산화탄소를 이용한 건식 웨이퍼 세정시 이산화탄소와 chemical간의 상거동 연구
김태형, 김진우, 한갑수, 임종성, 유기풍
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회
10 초임계 단일상 혼합유체를 이용한 반도체 패턴 웨이퍼상의 post-metal each residue 세정 연구
김진우, 강창일, 김태형, 한갑수, 임종성, 유기풍
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회
9 Measurements and Correlation of High-Pressure VLE of Binary CO2-Isopropanol System
정연근, 김진우, 임종성, 유기풍
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회
8 고압하에서 CO2와 2-Propanol 혼합물의 상거동 연구
정연근, 김진우, 임종성, 유기풍
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회
7 초임계 이산화탄소를 이용한 건식 웨이퍼 세정시 이산화탄소와 chemical간의 상거동 연구
김태형, 김진우, 임종성, 유기풍
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회
6 반도체 습식 세정 공정중 SC1 세정 용액에 킬레이팅 에이전트 첨가에 의한 오염 입자와 금속 오염물 제거 효과|Removal of Particles and Metal Impurities by adding of Chelating Agent onto SC1 Cleaning Solution in Semiconductor Wet Cleaning Process
이승호, 이상호, 권태영, 박진구, 배소익, 김인정, 이건호
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
5 반도체세정 기술개발 정책|반도체세정 기술개발 정책
안동준, 최근민
한국재료학회 2004년 가을 학술대회
4 RF 플라즈마를 이용한 Si wafer 유기화합물의 제거실험에 관한 연구
정미희, 최호석
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회
3 Pd/C 촉매를 이용한 Maleic anhydride로부터 GBL의 합성
이미진, 이원묵, 이철우
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회
2 3-D PTV 기술 및 CFD code를 이용한 반도체 세정 Bath내의 유동현상 측정 및 해석|The Measurement and Analysis of Phenomenological Fluid Motion in the Cleaning Bath for Semiconductor Process Using 3-D PTV Technique & CFD
강운용, 이민수, 함승주, 박헌휘|Woon-Yong Kang, Min-Soo Lee, Seung-Joo Haam, Hun-Hyee Park
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회