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NOx 제거용 코로나 방전 반응기에서 미립자 성장 예측을 위한 Discrete- Sectional 모델|Discrete-Sectional Model to Predict the Particle Growth in the Corona Discharge Reactor for NOx removal
김동주,김교선|Dong-Joo Kim,Kyo-Seon Kim
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회 |
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플라즈마 화학 기상 증착법을 이용한 저유전체 박막의 제조 및 특성|Plasma enhanced chemical vapor deposition and characterization of low-k dielectric thin film
김태희,홍주형,한윤봉|Tae-Hee Kim,Joo-Hyung Hong,Yoon-Bong Hahn
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회 |
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코로나 방전에 의한 NOx 제거시 공정 변수의 영향|Effects of Process Variables on NOx Removal by Corona Discharge
박정환, 김동주, 김교선|Jung-Hwan Park, Dong-Joo Kim and Kyo-Seon Kim
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
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NOx 제거용 코로나 방전 반응기에서의 플라즈마 화학 및 입자 성장|The Plasma Chemistry and Particle Growth in the Corona Discharge Reactor for removal of NOx
김동주, 김교선|Dong-Joo Kim, Kyo-Seon Kim
한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
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고밀도 플라즈마 발생자치 2차원 모델링|Two-Dimensional Modeling of High Density Plasma Source
이상덕, 윤창연, S. Berezhnoj, 신치범|Sang Duk Lee, Chang Yeon Yoon, S. Berezhnoj
한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
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불소화합물 증착에 의한 금속 표면의 소수성 향상|Plasma Deposition of Fluorocarbon for Hydrophobicity on Metal Surface
정재식, 김영채, 문세기|Jaesik Chung, Young Chai Kim, Sei-Ki Moon
한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
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초고 집적회로에서 층간 절연막으로 사용하기 위한 저 유전체 박막물질 증착|Deposition of Low Dielectric Constant Material for Intermetal Dielectric Applications in ULSI Circuits
김동선|Dong S. Kim
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
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공정 변수 변화에 따른 실란 PCVD 반응기에서의 입자 특성|The Characteristics of Particles in Silane PCVD Reactor Changing the Process Variables
김동주, 김교선|Dong-Joo Kim, Kyo-Seon Kim
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
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ECR플라즈마를 이용한 화학증착법에 의해 제조된 실리콘 산화막의 전기적특성|Electrical Characteristics of Silicon Oxide Films Prepared by Chemical Vapor Deposition Method Using ECR Plasma
전법주, 허정수, 오인환*, 임태훈*, 윤용수, 정일현|Bup-Ju Jeon, Jung-Soo Heo, In-Hwan Oh*, TaeHoon Lim*, Yong-Soo Youn, Il-Hyun
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
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플라즈마 화학 증착법에 의한 PbTiO3 박막의 증착과 급속열처리 효과|Preparation of PbTiO3 Thin Film by PECVD and RTA Effect
김종화, 한윤봉|Jong-Wha Kim, Yoon-Bong Hahn
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
