화학공학소재연구정보센터
번호 제목
3 Analysis of seed layer profiles inside the vias
김창규, 이원종
한국재료학회 2008년 가을 학술대회
2 Thermal stability of chemical vapor deposited Ru thin films on TiN substrate and SiO2 substrate
김범석, 김형준
한국재료학회 2007년 봄 학술대회
1 Co2(CO)8(Dicobalt Octacarbonyl) 전구체를 이용한 MOCVD Co 박막의 균일한 증착 특성 및 높은 순도에 관한 연구|Highly conformal deposition of pure Co films by MOCVD using Co2(CO)8 as a precursor
이정길, 이재갑
한국재료학회 2005년 가을 학술대회