| 번호 | 제목 |
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오존수를 이용한 실리콘 웨이퍼 연마 후 지용성 왁스 제거 효율 및 습식 세정 공정의 최적화에 관한 연구 이재환, 이승호, 김태곤, 박진구 한국재료학회 2007년 봄 학술대회 |
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레이저 충격파 특성에 의한 나노입자 제거효율에 미치는 영향 유영삼, 김태곤, 손일룡, 박진구 한국재료학회 2007년 봄 학술대회 |
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밀폐된 Chamber 에서 DHF 세정 후 IPA Vapor를 이용한 매엽식 기판 건조 임정수, 구교욱, 최승주, 성보람찬, 조중근, 박진구 한국재료학회 2007년 봄 학술대회 |
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폐기물 가스화 용융시스템으로부터 발생하는 냉각세정폐수의 수산화물 침전법을 이용한 중금속 분리 및 회수 이명옥, 김나랑, 유영돈 한국공업화학회 2007년 봄 학술대회 |
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Supercritical CO2 Resist Removal (SCORR) of Pattern Wafers 유기풍 한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 |
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45nm 반도체 세정기술 조중근 한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 |
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과산화수소를 대체하여 고농도의 오존수를 사용한 SC1의 오염물 제거 효율 평가 이승호, 박진구, 이상호, 김태곤, 권태영 한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
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유기용제가 함유된 액상폐기물 열분해가스의 세정폐수중 오염물질 함유특성 김나랑, 주지선, 김문현, 이명우 한국공업화학회 2006년 가을 학술대회 |
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RF Plasma Cleaning System을 이용한 광학렌즈 세정에 미치는 CF4 및 N2 Gas 영향에 관한 연구 홍주형, 김상식, 신중욱 한국공업화학회 2006년 봄 학술대회 |
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염색폐수 절감을 위한 섬유의 플라즈마 정련에 대한 연구 홍성진 한국공업화학회 2005년 봄 학술대회 |
