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Fluorescent Photoimag of Polymers Having tBOC-protected Quinizarin Dye Precursors by Chemical Amplification Lithography
유경욱, 주동준, 강종희, 한동근, 안광덕
한국고분자학회 2004년 가을 학술대회 |
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Deep UV에 의해 광패턴된 전도성 자기조립 단분자막을 이용한 생물분자소자의 전기화학적 특성에 관한 연구
최형석, 김희정, 오세용
한국고분자학회 2004년 봄 학술대회 |
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Acid-modified Poly(4-hydroxystyrene)을 이용한 산 촉진 열 가교형 Negative Photoresist의 합성 및 노광 특성 평가
조혜진, 김준영, 김태호
한국고분자학회 2003년 가을 학술대회 |
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ATRP를 이용한 Poly(4-hydroxystyrene)과 공중합물의 중합과 Deep-UV용 Positive Resist로의 응용에 대한 연구
윤종원, 김준영, 김태호
한국고분자학회 2003년 가을 학술대회 |
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Synthesis and characterization of new fluorinated polymers containing silicon and cyclotriphosphazene for polymer waveguides
심화섭, 김지은, 오승환, 김동유
한국고분자학회 2003년 가을 학술대회 |
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Conductive poly(aniline-co-aniline sulfonic acid)의 패턴 형성과 Cytochrome c의 고정화에 따른 생물전자소자로의 응용
오일수, 오세용
한국고분자학회 2003년 가을 학술대회 |
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Deep UV를 이용한 전도성 자기조립 단분자막의 패턴형성과 분자전자소자로의 응용에 관한 연구
최형석, 오세용
한국고분자학회 2003년 가을 학술대회 |
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Photochemistry for Photoalignment of Liquid Crystals Based on Novel Soluble Polyimide
Zhen-Xin Zhong, Xiang-Dan Li, 이승희, 이명훈
한국고분자학회 2003년 가을 학술대회 |
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Photoresist의 개요와 소재의 개발동향
김상태;송형수
한국고분자학회 2003년 봄 학술대회 |
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폴리이미드를 이용한 나노 패턴 형성 및 생물전자소자의 광다이오드 특성
함정민, 고창범, 오세용
한국고분자학회 2002년 가을 학술대회 |
