| 75 |
Low pressure chemical vapor deposition of tin oxide films and their morphological and electrical properties
이진주, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2013년 봄 학술대회 |
| 74 |
Effect of the O2 flow rate on tin oxide films prepared by low pressure chemical vapor deposition
이진주, 김준현, 조성운, 김창구
한국화학공학회 2012년 가을 학술대회 |
| 73 |
Reaction mechanism of tin oxide films deposited by low pressure chemical vapor deposition
김준현, 조성운, 김창구, 백창용, 강두원
한국화학공학회 2012년 가을 학술대회 |
| 72 |
Fabrication of three dimensional Cu nanostructures
조성운, 김창구
한국화학공학회 2012년 봄 학술대회 |
| 71 |
Control of the roughness on the sidewall of Si trenches during the Bosch process
김준현, 조성운, 김창구
한국화학공학회 2012년 봄 학술대회 |
| 70 |
Pseudocapacitive properties of electrodeposited Co/Mn composite oxides for electrochemical capacitors
서승혜, 이혜민, 김창구
한국화학공학회 2011년 가을 학술대회 |
| 69 |
Reduction of contact hole diameter by alternating etching and deposition using a fluorocarbon plasma
조성운, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2011년 가을 학술대회 |
| 68 |
Preparation and characterization of electrodeposited Co-Mn composite oxide thin films for Pseudocapacitor application
서승혜, 이혜민, 김창구
한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
| 67 |
Characterization of Mn-Ni oxides thin films electrodeposited on carbon sheet
이혜민, 서승혜, 김창구
한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
| 66 |
The role of steady-state fluorocarbon film during SiO2 etching in C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasmas
조성운, 김창구
한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
