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액상폐기물 가스화기에서 더스트 및 세정수의 발생특성
김나랑, 함동수, 주지선, 김문현
한국공업화학회 2005년 봄 학술대회 |
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A study on the dry cleaning of patterned wafer using single-phase mixtures with supercritical carbon dioxide
한갑수, 임종성, 유기풍
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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플라즈마 반응가스에 따른 유기오염물 제거 효율성 및 특성 분석
김광우, 이원규
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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RCA 반도체 습식 세정 공정 중 오존을 이용한 SC1 세정을 위한 최적화 연구|The Study of Optimized Process Condition using Ozone for SC1 Solution in RCA Wet Cleaning Process
이승호, 이상호, 김규채, 권태영, 박진구, 배소익, 김인정, 이건호
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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플라즈마 발생원과의 거리에 따른 유기오염물 제거 효율성 및 특성 분석
고천광, 김광우, 이원규
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
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반도체 습식 세정 공정중 SC1 세정 용액에 킬레이팅 에이전트 첨가에 의한 오염 입자와 금속 오염물 제거 효과|Removal of Particles and Metal Impurities by adding of Chelating Agent onto SC1 Cleaning Solution in Semiconductor Wet Cleaning Process
이승호, 이상호, 권태영, 박진구, 배소익, 김인정, 이건호
한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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플라즈마 발생원으로부터의 위치에 따른 표면의 유기오염물 제거 효과 분석
고천광, 이원규
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
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대기압 배리어 방전을 이용한 Cu 산화물의 환원|Reduction of copper oxide using atmospheric pressure dielectric barrier discharge
이수빈, 김윤기, 심연근
한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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RF 플라즈마를 이용한 Si wafer 유기화합물의 제거실험에 관한 연구
정미희, 최호석
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
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환경친화적 O2,H2 플라즈마를 이용한 Photoresist 세정효과|The Effects of Photoresist Cleaning Using Envronmetal-friendly O2, H2 plasma
소현,김의열,김양도,전형탁,김영채|Hyun Soh,Ui Yeul Kim,Yangdo Kim,Hyeongtag Jeon,Young Chai Kim
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회 |
