화학공학소재연구정보센터
번호 제목
3 이온주입된 Si(111)에 AlN 완충층을 이용하여 성장시킨 GaN 박막의 특성|The characteristics of AlN buffered GaN on ion implanted Si(111)
강민구, 진정근, 이재석, 노대호, 양재웅, 변동진
한국재료학회 2003년 가을 학술대회
2 변분법을 이용한 실리콘 단결정 내부의 점결점 제어를 위한 표면 온도 분포 최적화|Optimization of surface temperature distribution for point defects control in the silicon single crystal by using the variational principle
우화성, 정자훈, 강인석|Hwa Sung Woo, Ja Hoon Jeong, In Seok Kang
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회
1 변분법을 응용한 초크랄스키 공정에서 단결정 표면 온도 분포의 최적화. Part I : 열 응력 문제|Application of variational calculus to optimization of single crystal surface temperature distribution in the Czochralski process. Part I : Thermal stress problem
정자훈, 강인석|J.H. Jeong, I.S. Kang
한국화학공학회 2000년 가을 학술대회