화학공학소재연구정보센터
번호 제목
4 산소 및 수분에 의한 유기박막트랜지스터의 성능저하 메카니즘 분석 및 ALD를 이용한 AlOx 보호막의 passivation 효과
전하영, 신권우, 양상윤, 박찬언
한국고분자학회 2006년 봄 학술대회
3 SOI wafer Pseudo MOS Transistor에서의 SOI 및 BOX Thickness에 따른 trap density의 종속성|Dependency of SOI & BOX Thickness on trap density of SOI wafers in Pseudo MOS Transistor
손주환, 민병호, 권종성, 박재근
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
2 ECR플라즈마를 이용한 화학증착법에 의해 제조된 실리콘 산화막의 전기적특성|Electrical Characteristics of Silicon Oxide Films Prepared by Chemical Vapor Deposition Method Using ECR Plasma
전법주, 허정수, 오인환*, 임태훈*, 윤용수, 정일현|Bup-Ju Jeon, Jung-Soo Heo, In-Hwan Oh*, TaeHoon Lim*, Yong-Soo Youn, Il-Hyun
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회
1 실리콘의 Orientetion이 산소 플라즈마에 의해 제조된 실리콘 산화막의 전기적 특성에 미치는 영향|Effect of Silicon Orientation on the Electrical Properties of SiO2 Using Oxygen Plasma
허정수, 전법주, 오인환*, 임태훈*, 정일현|Jung-Soo Heo, Bup-Ju Jeon, In-Hwan Oh*, Tae Hoon Lim*and Il-Hyun Jung
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회