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저온 원거리 플라즈마를 이용한 Si 기판의 유기오염물 제거|The Removal of Organic contaminants Using Low Temperature Remote Plasma on Si substrage
소현, 이기형, 서형탁, 전형탁, 김영채|Hyun Soh, Ki Hyung Lee, Hyungtack Seo, Hyeongtag Heon, Young Chai Kim
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
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초임계 이산화탄소를 이용한 웨이퍼 세정|Wafer Cleaning Using Supercritical Carbon Dioxide
오봉환, 김선태, 이창용, 임교빈|Bong-Hwan Oh, Sun-Tae Kim, Chang-Yong Lee, Gio-Bin Lim
한국화학공학회 2000년 가을 학술대회 |
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ESCA를 이용한 웨이퍼의 세정도 측정|Measurement of Cleanliness of Wafer by ESCA
이광진, 정용안|Kwang Jin Lee, Yong An Jung
한국화학공학회 2000년 가을 학술대회 |
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대기오염물질의 습식세정을 위한 슬러리유동접촉조의 조업조건 산정방안|Method on the Determination of Operating Condition of Slurry Fluidized Contactor for Wet Scrubbing of Air Pollutants
박찬진|Chan Jin Park
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
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덕트 주입 배연탈황용 실리카-강화 흡수제 분말의 제조와 특성|Preparation and Characterization of Silica-Enhanced Sorbent Powder for Duct Injection FGD Process
정기훈, 김선근|Gi-Hune Jung, Sun-Geon Kim
한국화학공학회 1998년 봄 학술대회 |
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자외광 여기 NF3/H2 가스를 사용한 웨이퍼 세정 공정에서 자연 산화막 제거의 반응 기구|Reaction mechanism of the removal of native oxide in wafer cleaning process employing UV excited NF3/H2
권성구, 백종태, 김도현|Sung-Ku Kwon, Jong-Tae Baek, Do-Hyun Kim
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
