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번호	제목
16	OES를 이용한 평판형 유도결합 BCl₃/SF₆ 플라즈마 식각 특성 연구\|A Study of Etching Characteristic in Planar Inductively Coupled BCl₃/SF₆ Plasma by OES 박민영, 이제원, 장수욱, 노호섭, 조관식, 박강수, 박건수, 윤진성 한국재료학회 2005년 가을 학술대회
15	평판형 유도결합 BCl₃/CF₄ 플라즈마를 이용한 GaAs/AlGaAs 선택적 건식 식각\|Selective Dry Etching of GaAs over AlGaAs in a Planar Inductively Coupled BCl₃/CF₄ Plasma 유승열, 장수욱, 박민영, 이장희, 노호섭, 임완태, 이제원, 조관식, 전민현, 송한정, 백인규, 권민철 한국재료학회 2005년 봄 학술대회
14	유도 결합 플라즈마 반응성 이온식각을 이용한 NbO_x nanodot의 식각 메카니즘 연구 박익현, 이장우, 정지원 한국공업화학회 2004년 가을 학술대회
13	하드 마스크를 이용한 CoZrNb과 CoTb 자성 박막의 고밀도 반응성 이온 식각 신 별, 박익현, 정지원 한국화학공학회 2004년 가을 학술대회
12	CoTb과 CoZrNb 자성 박막의 고밀도 반응성 이온 식각 신 별, 박익현, 정지원 한국화학공학회 2004년 봄 학술대회
11	Femtosecond laser의 조사에 의한 실리카 유리의 굴절률변화.\|The changed refractive index of Ge-BPSG by Femtosecond laser. 조기현, 송명곤, 신동욱, 이건준, 이영백 한국재료학회 2004년 봄 학술대회
10	유도결합 플라즈마(ICP)를 이용한 Er 첨가된 광도파막 식각 특성 연구\|A study on the etching characteristics of Er doped optical waveguide films using Inductively Coupled Plasma Etching 송명곤, Jiehe Sui, 신동욱 한국재료학회 2004년 봄 학술대회
9	C₂F₆ 및 NF₃ 유도결합플라즈마를 이용한 SiO₂ : Ge 식각에관한 연구\|Inductively coupled plasma Reactive ion etching of Ge doped silica glass using C₂F₆ and NF₃ 이 석 룡, 문 종 하, 김 원 효, 이 병 택 한국재료학회 2003년 가을 학술대회
8	ZnO박막의 Cl2/Ar, Cl2/H2/Ar, CH4/H2/Ar을 이용한 플라즈마 식각\|Dry etching of ZnO thin films in Cl2/Ar,Cl2/H2/Ar and CH4/H2/Ar plasmas 박진수,한윤봉\|Jin Soo Park,Yoon Bong Hahn 한국화학공학회 2001년 가을 학술대회
7	NiFe, CoFe 박막의 습식 식각 특성\|Wet etch characteristics of NiFe,CoFe thin films 변요한,김혜인,정지원\|Yo Han Byun,Hye In Kim,Chee Won Chung 한국화학공학회 2001년 가을 학술대회