| 11 |
졸-겔법을 이용한 SnO2 막의 제조.|Preparation of SnO2 Films by Sol-Gel Process.
유대종, 김선근|Dae-Jong You, Sun-Gun Kim
한국화학공학회 1998년 가을 학술대회 |
| 10 |
KOH를 이용한 α-Ferric oxyhydroxide의 결정화와 입자크기 제어에 관한 연구|Crystallization and Particle Size Control of α-Ferric oxyhydroxide using KOH as the precipitant
설수덕, 신동옥|Soo Duck Seul, Dong Ock Shin
한국화학공학회 1998년 가을 학술대회 |
| 9 |
BaTiO3미세분말의 수열결정화속도|Kinetics of the Hydrothermal Crystallization of Fine BaTiO3 Powder
오정강, 서경원|Jung Kang Oh, Kyung Won Seo
한국화학공학회 1998년 가을 학술대회 |
| 8 |
튜브형 가열로 반응기에서 초미세 SiO2 입자의 균일한 증착에 관한 이론적/실험적 분 석|Theoretical/Experimental Analysis on Uniform Coating of Ultrafine SiO2 Particles in the Tube Furnace Reactor
김동주, 유수종, 김교선|Dong-Joo Kim, Soo-Jong You, Kyo-Seon Kim
한국화학공학회 1998년 봄 학술대회 |
| 7 |
수직형 튜브 가열로 반응기에서 증착 구간의 온도 제어에 의한 초미세 SiO2 입자의 균일한 증착|Uniform Deposition of Ultrafine SiO2 Particles by Temperature Control of Deposition Zone in Vertical Tube Furnace Reactor
유수종, 김교선|Soo-Jong You, Kyo-Seon Kim
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
| 6 |
실란 PCVD 반응기에서 공정 변수 조건에 따른 입자 거동|The Movements of Particles in Silane PCVD Reactor for Various Process Conditions
김동주, 김교선|Dong-Joo Kim, Kyo-Seon Kim
한국화학공학회 1997년 봄 학술대회 |
| 5 |
공정 변수 변화에 따른 실란 PCVD 반응기에서의 입자 특성|The Characteristics of Particles in Silane PCVD Reactor Changing the Process Variables
김동주, 김교선|Dong-Joo Kim, Kyo-Seon Kim
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
| 4 |
가스상 세정공정에서 자연 산화막 제거에 대한 UV 조사의 영향|Effect of UV exposure on native oxide removal in dry cleaning process
권성구, 김도현|Sung Ku Kwon, Do Hyun Kim
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
| 3 |
증착 구간의 온도 제어에 의한 SiCl4 초미립자의 균일한 증착|Uniform Deposition of Ultrafine SiO2 Particles by Temperature Contol in Deposition Zone
유수종, 김교선|Soo-Jong You, Kyo-Seon Kim
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
| 2 |
Styrene / NaSS 시드 유화 공중합에서 시드 입자의 특성이 이차 입자 생성 메카니즘에 미치는 영향
정인우, 김중현
한국화학공학회 1996년 봄 학술대회 |
