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Si3N4/SiO2 고선택비 인산 습식 에칭기술 개발
배진성, 오지숙, 서동완, 임상우
한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
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EUV photomask의 ozonated deionized water (DIO3) 세정 후Ru capping layer의 표면 변화 연구
서동완, 배진성, 정준의, 임상우
한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
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Post Ru CMP Cleaning for Alumina Particle Removal
Y. Nagendra Prasad, Tae-Young Kwon, In-Kwon Kim, Jin-Goo Park
한국재료학회 2011년 봄 학술대회 |
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디스플레이 산업의 녹색화를 위한 제품 및 공정기술
김영석
한국화학공학회 2010년 가을 학술대회 |
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pMOS gate stack capping layer의 고선택비 습식에칭 기술연구
오지숙, 윤미현, 임상우
한국화학공학회 2010년 가을 학술대회 |
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Comparison of the plasma etching and chemical etching of glass
Jungki Lee, Seongjin Hwang, Sungmin Lee, Hyungsun Kim
한국재료학회 2010년 가을 학술대회 |
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High-k/capping layer의 Gate Stack Etch Post Cleaning 연구
오지숙, 임경택, 윤미현, 임상우
한국화학공학회 2010년 봄 학술대회 |
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Hard coating 도입을 통한 flexible substrate 제작
박은숙, 김인선, 황희남, 박용호, 윤석호, 김상기
한국고분자학회 2009년 봄 학술대회 |
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Increased Osteoblast Adhesion Densities on High Surface Roughness and on High Density of Pores in NiTi Surfaces
임연민, 강동우, 김연욱, 남태현
한국재료학회 2009년 가을 학술대회 |
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An alternate wet etching of glass by using ammonium hydrogen fluoride base etchant
박현정, 이진수, 고영옥, 이철태
한국공업화학회 2009년 가을 학술대회 |
