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번호	제목
81	탄소나노물질을 이용하는 CDI 공정의 모델링 전상훈, 신치범, 이기택, 서동진, 조원일, 조병원 한국화학공학회 2004년 가을 학술대회
80	Cl^-, Glue 및 HEC를 첨가제로 사용하여 Cu 전해도금시 전류밀도와 교반의 영향\|The effect of current density and stirring upon copper electrodeposition in sulfate solution using Cl^-, Glue, and HEC as additives 윤영민, 김한진, 박일송, 윤정모, 설경원 한국재료학회 2004년 가을 학술대회
79	티타늄 기판을 이용한 구리 전해도금에 미치는 첨가제와 전류밀도의 영향\|The effect of additives and current density upon copper electrodeposition using titanium substrate 우태규, 기준서, 박일송, 윤정모, 설경원 한국재료학회 2004년 가을 학술대회
78	H₂SO₄ 용액중의 Fe-XAl-0.3Y 합금의 부식특성 연구\|A study on the corrosion behaviour of Fe-XAl-0.3Y in H₂SO₄sulphuric acid 이병우, 손영진 한국재료학회 2004년 가을 학술대회
77	펄스전해법에 의한 고순도 구리분말의 제조\|Preparation of High purity Cu powder by pulse applied electrodeposition 안종관, T. HAI, 김동진, 이재령, 정헌생, 김종오, 김병규, 김민석 한국재료학회 2004년 가을 학술대회
76	Tris(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato) neodymium 을 이용한 Nd oxide 박막의 액체직접주입방식(DLI) 유기금속화학증착\|Direct liquid injection metal organic chemical vapor deposition of Nd oxide films using Tris(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato) neodymium 송문균, 이시우 한국재료학회 2004년 가을 학술대회
75	에칭 및 산화조건에 따른 N-type 기공성 실리콘의 구조 및 발광 특성\|Effect of Etching and Aging Conditions on the Structural, Chemical, and Optical Features of the N-type Porous Silicon 황선재, 조남희 한국재료학회 2004년 가을 학술대회
74	원자층 증착 방법에 의한 실리콘 질화막 특성에 관한 연구\|The Characteristics of Silicon Nitride Thin Film by Atomic Layer Deposition 천민호, 한창희, 김운중, 이원준, 이연승, 나사균 한국재료학회 2004년 가을 학술대회
73	CMOS 적용을 위하여 질소플라즈마 효과를 이용한 초박막 HfO₂게이트 유전체의 전기적, 신뢰성 특성 평가\|Electrical and reliability characteristics of ultra-thin HfO₂ gate dielectrics by N₂ plasma treatment for CMOS application 김전호, 최규정, 윤순길, 이원재, 김진동 한국재료학회 2004년 가을 학술대회
72	개미산을 이용한 소형연료전지시스템의 특성 연구 김정수, 이영우, 이효송, 정은미, 김진용 한국화학공학회 2004년 봄 학술대회