| 번호 | 제목 |
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III-V족 화합물 반도체의 표면보호막 생성에 대한 표면화학적 연구|Long-Term Surface Passivation of III-V Compound Semiconductor 정찬화, S. I. Yi, W. Henry Weinberg|Chan-Hwa Chung, S. I. Yi, W. Henry Weinberg 한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
| 4 |
RuO2 하부전극의 열적 안정성과 BST 박막의 조성에 미치는 영향에 대한 열역학적 계산|Thermodynamic Evaluations for the Thermal Stability of RuO2 Bottom Electrode and its Effects on the Compositions of BST Thin Film 오윤진, 정찬화|Youn-Jin Oh, Chan-Hwa Chung 한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
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III-V족 화합물반도체의 산화막 형성 기구에 관한 연구|The Oxidation Mechanism of III-V Compound Semiconductor Films 정찬화, W. J. Mitchell, S. I. Yi, Evelyn L. Hu, W. Henry Weinberg|Chan-Hwa Chung, W. J. Mitchell, S. I. Yi, Evelyn L. Hu, W. Henry Weinberg 한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
| 2 |
금속 유기물 화학 증착 공정의 화학 반응 기구에 대한 실험적 관찰|Monitoring of Decomposition Behavior of Metal Oxide Precursors in Chemical Vapor Deposition 정찬화, 조성일, 문상흡|Chan-Hwa Chung, Sung-Il Cho, Sang Heup Moon 한국화학공학회 1997년 봄 학술대회 |
| 1 |
실리콘 표면의 자연산화막 성장 억제에서 Fluoride 의 역할 김창구, 정찬화, 문상흡 한국화학공학회 1995년 가을 학술대회 |
