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반도체 초미세 가공용 포토레지스트 재료|Photoresists for Microlithography
정찬문|Chan-Moon Chung
한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
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PLA/MPEG 블록 공중합체 미셀의 약물 방출 메카니즘|Drug releasing mechanism of PLA/MPEG block copolymer micelles
김성연, 김덕준|Sungyeon Kim, Dukjoon Kim
한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
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초임계수 결정화법에서 원료 농도비 및 반응시간이 바륨 헥사페라이트 제조 특성에 미치는 영향|Influence of Stoichometry and Reaction Time in the Barium Hexaferrite Syntehsis by Supercritical Water Crystallization Method
서순용, 노승욱, 박상도, 김종기, 박소진|Soon-Yong Seo, Seung-Wook Rho, Sangdo Park, Jong-Gi Kim, So-Jin Park
한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
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1차 가역반응이 수반되는 수평 유체층에서의 대류 불안정성 해석|An Analysis of Convective Instability in a Horizontal Liquid Layer Accompanied by First Order Chemical Reaction
최창균, 백공진|Chang Kyun Choi, G.J. Baek
한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
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나노결정성 산화 티타늄(IV) 광전지의 이온 첨가효과|Effect of Altervalent Ion Doping in Nanocrystalline Titanium (IV) Oxide Photo-chemical Cells
박대철, 백진욱, 박양진|Dae-Chul Park, Jin-Ook Baeg, Yang Jin Park
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
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삼상유동층의 흐름특성|Flow Characteristics in Three-Phase Fluidized Beds
김상돈, 강용, 이동현|S.D. Kim, Y. Kang, D.H. Lee
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
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광화학 반응기를 이용한 Methyl Chloride의 광염소화 반응|Photochlorination of Methyl Chloride in Photochemical Reactor
김오영, 박흥목|O. Y. Kim, H. M. Park
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
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Mo/Ti 혼합 광촉매의 제조 및 성능평가|Preparation and characterization of Mo/Ti mixed oxide photocatalyst
윤우석, 설용건, 주현규, 전명석, 이태규|Woo-seok Yoon, Y. G. Shul, Hyunku Joo, M. S. Jeon, T. K. Lee
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
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Benzyltriethylammonium chloride의 분배 및 해리 평형|Distribution and Dissociation Equilibria of Benzyltriethylammonium Chloride
박상욱, 윤한수, 손인조, 문보영, 이은주|S. W. Park, H. S. Yoon, I. J. Sohn, B. Y. Moon, E. J. Lee
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
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자외선 경화형 Poly(styrene-co-itaconic acid)의 합성과 미세패턴형성|Synthesis and Micro-patterning of UV curable Poly(styrene-co-itaconic acid)
김준영, 안광덕, 김태호|Jun-Young Kim, Kwang-Duk Ahn, Tae-Ho Kim
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
