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소화기 사격장의 위치 및 시료별 중금속 오염도 비교 연구
김홍현, 정상조
한국공업화학회 2019년 봄 학술대회 |
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수중 중금속 오염물질 제거를 위한 양극성 메조공극 베타제올라이트 입상화 연구
여인설, 박찬규, 안주석
한국공업화학회 2018년 봄 학술대회 |
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실리콘 웨이퍼 상 금속 오염 세정 공정 연구
이동환, 김민수, 김현태, 최인찬, 장성해, 박진구
한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
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Si 웨이퍼 제조 공정 중 발생하는 금속 오염물 및 오염 입자 제거를 위한 세정공정 연구
송희진, 박건호, 장성해, 김민수, 박진구
한국재료학회 2016년 봄 학술대회 |
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활성탄 코팅 필터의 여과특성 및 수은흡착특성
이명화, 박은선, 오민정, 김한빈
한국공업화학회 2016년 가을 학술대회 |
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알칼리 가수분해를 통한 PIM-COOH 제조 및 금속화 반응
맹보미, 전준우, 허강무, 유영재, 김용석, 김병각
한국공업화학회 2016년 봄 학술대회 |
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Adsorption removal of arsenic and uranium using iron oxide impregnated granular activated carbon in ground water
신민정, 이혜진, 이홍신, 이창하
한국공업화학회 2014년 봄 학술대회 |
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삼상 유동층 광촉매 반응기에서 가시광원을 이용한 수중 유기물질의 광분해 연구
남우석, 김은영, 한귀영
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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세정 성능 평가를 위한 실리콘 웨이퍼 표면에서의 입자 오염 방법|Particle Contamination Method on Si Wafer Surface for Evaluation of Cleaning Efficiency
김규채, 권태영, 이승호, 이상호, 박진구
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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반도체 습식 세정 공정중 SC1 세정 용액에 킬레이팅 에이전트 첨가에 의한 오염 입자와 금속 오염물 제거 효과|Removal of Particles and Metal Impurities by adding of Chelating Agent onto SC1 Cleaning Solution in Semiconductor Wet Cleaning Process
이승호, 이상호, 권태영, 박진구, 배소익, 김인정, 이건호
한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
