| 번호 | 제목 |
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DNF의 반도체용 박막재료 개발 동향 김진동 한국화학공학회 2007년 가을 학술대회 |
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CMOS 적용을 위하여 질소플라즈마 효과를 이용한 초박막 HfO2 게이트 유전체의 전기적, 신뢰성 특성 평가|Electrical and reliability characteristics of ultra-thin HfO2 gate dielectrics by N2 plasma treatment for CMOS application 김전호, 최규정, 윤순길, 이원재, 김진동 한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
