화학공학소재연구정보센터
번호 제목
125 Etching of SiO2 in an inductively coupled plasma using hexafluoroisopropanol
이유종, 김창구
한국화학공학회 2022년 봄 학술대회
124 Etching of SiO2 in inductively coupled plasmas using heptafluoropropyl methyl ether and perfluoropropyl carbinol
선은재, 김창구
한국화학공학회 2022년 봄 학술대회
123 SiO2 contact hole etching using heptafluoropropyl methyl ether/pentafluoropropanol/O2/Ar plasmas
유상현, 김창구
한국화학공학회 2022년 봄 학술대회
122 Angular dependence of etch rates in fluoro-ether/O2/Ar plasmas
유상현, 김창구
한국화학공학회 2021년 가을 학술대회
121 Effects of O2 addition on etching process in heptafluoropropyl methyl ether plasmas
이유종, 김창구
한국화학공학회 2021년 가을 학술대회
120 Angular dependence of SiO2 etch rates in hydrofluoroalcohol-containing plasmas
선은재, 김창구
한국화학공학회 2021년 가을 학술대회
119 Etching characteristics of fluoroether/fluoroalcohol/Ar plasmas
유상현, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2021년 봄 학술대회
118 Effect of mixing ratio in SiO2 etching using hydrofluoroether plasmas
선은재, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2021년 봄 학술대회
117 Etching characteristics of SiO2 in heptafluoropropyl methyl ether and pentafluoropropanol plasmas
이유종, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2021년 봄 학술대회
116 Hydrofluoroether 플라즈마를 이용한 SiO2 식각
유상현, 김창구
한국화학공학회 2020년 봄 학술대회