125 |
Etching of SiO2 in an inductively coupled plasma using hexafluoroisopropanol 이유종, 김창구 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
124 |
Etching of SiO2 in inductively coupled plasmas using heptafluoropropyl methyl ether and perfluoropropyl carbinol 선은재, 김창구 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
123 |
SiO2 contact hole etching using heptafluoropropyl methyl ether/pentafluoropropanol/O2/Ar plasmas 유상현, 김창구 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
122 |
Angular dependence of etch rates in fluoro-ether/O2/Ar plasmas 유상현, 김창구 한국화학공학회 2021년 가을 학술대회 |
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Effects of O2 addition on etching process in heptafluoropropyl methyl ether plasmas 이유종, 김창구 한국화학공학회 2021년 가을 학술대회 |
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Angular dependence of SiO2 etch rates in hydrofluoroalcohol-containing plasmas 선은재, 김창구 한국화학공학회 2021년 가을 학술대회 |
119 |
Etching characteristics of fluoroether/fluoroalcohol/Ar plasmas 유상현, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2021년 봄 학술대회 |
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Effect of mixing ratio in SiO2 etching using hydrofluoroether plasmas 선은재, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2021년 봄 학술대회 |
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Etching characteristics of SiO2 in heptafluoropropyl methyl ether and pentafluoropropanol plasmas 이유종, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2021년 봄 학술대회 |
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Hydrofluoroether 플라즈마를 이용한 SiO2 식각 유상현, 김창구 한국화학공학회 2020년 봄 학술대회 |