화학공학소재연구정보센터
번호 제목
5   메가소닉 주파수의 변화가 나노입자제거에 미치는 영향 
김혁민, 강봉균, 이승호, 김정인, 이희명, 박진구
한국재료학회 2009년 가을 학술대회
4 반도체 세정액 내 용존 수소 가스가 웨이퍼 세정에 미치는 영향   
김혁민, 강봉균, 이승호, 박진구, 최은석, 김인정, 김봉우
한국재료학회 2009년 봄 학술대회
3 반도체 세정기술의 개발 동향
백귀종
한국공업화학회 2008년 가을 학술대회
2 밀폐된 Chamber 에서 DHF 세정 후 IPA Vapor를 이용한 매엽식 기판 건조
임정수, 구교욱, 최승주, 성보람찬, 조중근, 박진구
한국재료학회 2007년 봄 학술대회
1 Semiconductor Cleaning for Nano Scale Device
이헌정, 이다희
한국화학공학회 2006년 가을 학술대회