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Hydrofluoroether 플라즈마를 이용한 SiO2 식각
유상현, 김창구
한국화학공학회 2020년 봄 학술대회 |
| 11 |
Control of the contact hole diameter by advanced cyclic etching
박창진, 김창구
한국화학공학회 2016년 가을 학술대회 |
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Effect of bias voltage on the angular dependence of SiO2 etch rates in fluorocarbon plasmas
박정근, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2016년 봄 학술대회 |
| 9 |
Angular dependence of Si3N4 etch rates in fluorocarbon plasmas
김준현, 조성운, 김창구
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
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Effect of gas composition on the angular dependence of SiO2 etch rates in fluorocarbon plasmas
박정근, 김준현, 조성운, 김창구
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
| 7 |
Angular dependence of SiO2 etch rate in fluorocarbon plasmas
김준현, 조성운, 김창구
한국화학공학회 2014년 가을 학술대회 |
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Effect of F/C ratio in discharge gases on the angular dependence of etch rates of SiO2
조성운, 김창구
한국화학공학회 2014년 봄 학술대회 |
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The role of steady-state fluorocarbon film during SiO2 etching in C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasmas
조성운, 김창구
한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
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Effect of CH2F2 addition on angular dependence of SiO2 etching in a C4F6/O2/Ar plasma
조성운, 김창구
한국화학공학회 2010년 가을 학술대회 |
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Characteristics of Fluorocarbon Thin Films Deposited in C4F8 and C4F6 Plasmas
권혁규, 지정민, 김창구
한국화학공학회 2008년 가을 학술대회 |
