화학공학소재연구정보센터
번호 제목
8 C7F14 플라즈마를 이용한 SiO2, Si3N4의 식각 연구
탁현우, 성다인, 양경채, 김수강, 김동우, 염근영
한국재료학회 2018년 가을 학술대회
7 GWP가 낮은 C3F6O/Ar 가스를 이용한 친환경 SiO2 식각 연구
김수강, 양경채, 신예지, 성다인, 탁현우, 염근영
한국재료학회 2018년 봄 학술대회
6 Superimposed multi-frequency plasma source 의 plasma diagnostic 및 etch 특성 분석
양경채, 김수강, 신예지, 성다인, 염근영
한국재료학회 2018년 봄 학술대회
5 나노미터급에서 Magnetic tunneling junction 물질의 etch damage 개선에 관한 연구
양경채, 김수강, 이호석, 염근영
한국재료학회 2017년 가을 학술대회
4 Focus ring의 재질 및 구조 변화를 통한 Focus ring의 etch resistance 향상에 관한 연구
김수강, 양경채, 이호석, 이수정, 이원오, 염근영
한국재료학회 2017년 봄 학술대회
3 HARC 식각을 위한 pulsed triple frequency 효과에 대한 연구
양경채, 김수강, 이호석, 성다인, 염근영
한국재료학회 2017년 봄 학술대회
2 Improvement of De-chuck Process by applying Two Stage Lifter System in Johnsen-Rahbek Electrostatic Chuck
이호석, 양경채, 박성우, 권승환, 염근영
한국재료학회 2016년 가을 학술대회
1 Effect of the dual synchronous pulsed plasma on the etch characteristics of SiO2
이호석, 양경채, 박성우, 염근영
한국재료학회 2016년 봄 학술대회