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연마율 및 Damage-free 연마시트를 위한 미세 연마입자의 분산기술 개발
송신애, 오주영, 정용철, 이상호, 조시형, 문덕주
한국공업화학회 2016년 봄 학술대회 |
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사파이어웨이퍼 연마에대한 실리카졸 물성의영향Effect of silica sol property on sapphire wafer polishing
이승호, 나호성, 김규수, 김대성
한국재료학회 2015년 봄 학술대회 |
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화학기계적 평탄화 공정 중 Dampner가 Large Particle의 형성에 미치는 영향에 관한 연구
이정환, 서영길, 조병준, 김동하, 박진구
한국재료학회 2015년 봄 학술대회 |
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다이아몬드 슬러리와 다양한 금속-수지 정반을 사용한 Sapphire Lapping Process에 관한 연구
박건호, 김혁민, 박진구
한국재료학회 2014년 봄 학술대회 |
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Lithography 공정에서 사용되는 Blank Mask 제작을 위한 Quartz 기판 연마용 Ceria 입자분산평가
서영길, 김혁민, Xiong Hailin, 문덕주, 박진구
한국재료학회 2013년 가을 학술대회 |
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Sapphire 기판의 친환경 Lapping 공정을 위한 고정연마입자패드 평가
서영길, 박진구, 김혁민, Manivannan. R, Hailin Xiong
한국재료학회 2013년 봄 학술대회 |
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유기물 제거를 위한 Post Cu CMP 세정 용액 개발
권태영, Y. Nagendra Prasad, R. Prasanna Venkatesh, 박진구
한국재료학회 2011년 봄 학술대회 |
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CMP 컨디셔닝 공정에서의 부식방지를 위한 자기조립 단분자막의 적용과 표면특성 평가
조병준, 권태영, R. Prasanna Venkatesh, 김혁민, 박진구
한국재료학회 2011년 봄 학술대회 |
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The evaluation of ceria slurry for blank mask polishing for Photo-lithography process
김혁민, 권태영, 조병준, 박진구
한국재료학회 2011년 봄 학술대회 |
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Microemulsion 방법을 이용한 CMP용 CeO2/SiO2 나노 연마입자의 제조
정상호, 이대원, 이관영
한국화학공학회 2008년 봄 학술대회 |
