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Atomic Layer Chemical Vapor Deposition of Hf-silicate Gate Dielectrics for Organic Thin Film Transistor Application
이승협, 용기중
한국화학공학회 2009년 가을 학술대회 |
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Atomic layer deposition을 이용한 Hf-silicate 박막 증착과 이를 이용한 펜타센 박막 트랜지스터의 성능 향상
이승협, 용기중
한국재료학회 2009년 가을 학술대회 |
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Atomic Layer Chemical Vapor Deposition and Characterization of Ti-silicate Gate Dielectrics Using Tetrakis-diethylamido Titanium (TDEAT) and Tetrabutoxyorthosilane (TBOS)
이승협, 이승재, 용기중
한국화학공학회 2007년 봄 학술대회 |
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ALCVD를 이용한 Hf-silicate, Ti-silicate 게이트 산화막 성장 및 특성 연구
이승재, 용기중
한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 |
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Comparative study of ultra-thin HfSixOy and HfSixOy/SiO2 gate dielectrics grown by self-limiting surface reaction between Hf(NC2H5)4 and Si(OC4H9)4 precursor
김재현, 용기중
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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Interfacial properties of ultra thin HfxSi1-xO2 films grown by ALCVD using Hf(N(C2H5)2)4 and Si(OC4H9)4 for CMOS application
김재현, 용기중
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
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Atomic Layer Chemical Vapor Deposition and Characterization of Hafnium Silicate Films
김재현, 용기중
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
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Surface Reaction of TBOS (tetra-n-Butyl orthosilicate) on Si (100) by TPD and AES
이나경, 용기중
한국화학공학회 2004년 봄 학술대회 |
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ALCVD를 이용한 Zirconium Silicate 박막의 증착 특성|Deposition Properties of Zirconium Silicate thin Film using ALCVD
이시우, 김원규, 강상우, 이내인, 이종호, 강호규|Shi-Woo Rhee, WonKyu Kim, SangWoo Kang, Nae-In Lee, Jong-Ho Lee, Ho-Kyu Kang
한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
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원자층 증착 공정에 관련한 Si(100)위에서 알코올의 표면화학연구|surface chemistry of alcohols on Si(100) for ALD process
김재현, 김관수, 용기중|Jaehyun Kim, Kwansoo Kim, Kijung Yong
한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
