| 16 |
Effect of acid diffusion control on triphenylsulfonium salt bound polymer resist.
정진혁, 박상욱, 이해원
한국고분자학회 2013년 가을 학술대회 |
| 15 |
Synthesis and Characterization of Triphenylsulfonium Salt Bound Polymer Resist for Fabrication of Nanostructure
정진혁, 이해원, 강하나, 강만규
한국고분자학회 2013년 봄 학술대회 |
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Ultra-extensive area symmetric block copolymer lithography enabled by I-line photo-lithography
진형민, 문형석, 정성준, 김상욱
한국고분자학회 2012년 가을 학술대회 |
| 13 |
Synthesis of novel monomer containing tertiary caprolactone
조영욱, 신한결, 김진백
한국고분자학회 2012년 봄 학술대회 |
| 12 |
Directed assembly of block copolymers on chemically patterned substrates prepared by conventional ArF lithography
최영주, 박승학, 신동옥, 김봉훈, 김상욱
한국고분자학회 2011년 가을 학술대회 |
| 11 |
Photoacid Generator Bound PMMA-Based Resist for nanostructure Fabrication
이해원, 김민정, 손경화, 해먼트 수렌드라 몬드카
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
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Patterning Block Copolymer through Conventional 193 nm ArF Lithography and subsequent thermal flow
문정호, 박승학, 신동옥, 김봉훈, 문형석, 김주영, 김상욱
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
| 9 |
Block Copolymer Multiple Patterning Integrated with Conventional 193 nm ArF Lithography
문정호, 박승학, 신동옥, 문형석, 김주영, 김상욱
한국고분자학회 2010년 가을 학술대회 |
| 8 |
Ultralarge-Area Block Copolymer Lithography Integrated with Conventional Lithography
김상욱, 정성준, 김봉훈, 이덕현
한국고분자학회 2009년 가을 학술대회 |
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Materials of Spin-on Hardmask for Sub-70nm Device Fabrication
이정훈, 이창호, 김영호, 윤호규
한국고분자학회 2009년 봄 학술대회 |
