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학술대회 목록보기

번호	제목
17	Effects of O2 addition on etching process in heptafluoropropyl methyl ether plasmas 이유종, 김창구 한국화학공학회 2021년 가을 학술대회
16	Pulsed biased 적용을 통한 Si와 TiO2 나노구조체의 식각 특성 향상에 대한 연구 김희주, 신예지, 오지수, 김교운, 염근영 한국재료학회 2019년 가을 학술대회
15	Quasi-Atomic Layer Etching of SiO2 Layers for Surface Cleaning of Nanoscale Patterns with Fluorocarbons having Low Global Warming Potential 김용재, 채희엽, 조예근, 이상인 한국화학공학회 2018년 가을 학술대회
14	Plasma etching of SiO2 using hexafluoroisopropanol 박진수, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2018년 가을 학술대회
13	Dependence of SiO₂ etch rates on the ion-incident angle at various bias voltages in a C₄F₈ plasma 박창진, 김창구 한국화학공학회 2017년 봄 학술대회
12	Effect of bias voltage on the angular dependence of SiO₂ etch rates in C₄F₈ plasmas 김준현, 조성운, 김창구 한국화학공학회 2015년 봄 학술대회
11	Piezoelectric Inkjet Printing and Polymer Ink 윤연희, 이병국, 조용우 한국화학공학회 2009년 봄 학술대회
10	Electrical and Optical Properties of Fluorocarbon Films Deposited in C₄F₈ Plasmas 박병훈, 권혁규, 산토시구마르마하파트라, 김창구 한국화학공학회 2008년 봄 학술대회
9	Insulating Properties of Fluorocarbon Films Deposited in C₄F₈ Plasmas 박병훈, S.K. Mahapatra, 권혁규, 김창구 한국공업화학회 2008년 봄 학술대회
8	Study of substrate temperature effect on FC(Fluorinated carbon) film using C₄F₈(Octafluorocyclobutane) precursor. 성미린, 이계영, 김규채, 이선영, 임현우 한국재료학회 2007년 가을 학술대회