| 9 |
Nondestructive and direct photolithography for high-resolution InP quantum dot patterns by atomic layer deposition
이준엽, 조성용
한국재료학회 2021년 가을 학술대회 |
| 8 |
고불소화 단분자 포토레지스트 및 고불소화 바인더의 개발과 고불소계 용제를 이용한 포지티브형의 패턴 제작
원종인, 이진균
한국고분자학회 2019년 봄 학술대회 |
| 7 |
Material exposed to light in regularization for positive-tone photoresists
윤정, 이승우, 김기승, 서지훈
한국고분자학회 2017년 봄 학술대회 |
| 6 |
Synthesis and characterization of positive tone polyimide photo-resist
문관호, 김재홍, 홍덕기, 김기승, 이승우
한국공업화학회 2017년 봄 학술대회 |
| 5 |
Photosensitive material in patterning for positive-tone photoresists
곽영준, 이승우, 손석호, 석웅철, 김기승
한국고분자학회 2016년 봄 학술대회 |
| 4 |
Synthesis and characterization of polybenzoxazoles for positive-tone photoresists
손석호, 박주현, 석웅철, 이승우, 곽영준
한국고분자학회 2015년 가을 학술대회 |
| 3 |
Synthesis and Characterization of Alkali Developable Positive Type Photosensitive Polyimide for Colorless Interlayer Insulator in TFT-LCD Device
심현보, 이미혜, 김경준, 홍성권
한국고분자학회 2004년 가을 학술대회 |
| 2 |
Synthesis and Characterization of Positive Type Photosensitive Polyamic ester
심현보, 최성묵, 최길영, 김동석, 김경준, 이미혜
한국고분자학회 2003년 가을 학술대회 |
| 1 |
Photoresist의 개요와 소재의 개발동향
김상태;송형수
한국고분자학회 2003년 봄 학술대회 |
