화학공학소재연구정보센터
번호 제목
3 Superimposed multi-frequency plasma source 의 plasma diagnostic 및 etch 특성 분석
양경채, 김수강, 신예지, 성다인, 염근영
한국재료학회 2018년 봄 학술대회
2 Focus ring의 재질 및 구조 변화를 통한 Focus ring의 etch resistance 향상에 관한 연구
김수강, 양경채, 이호석, 이수정, 이원오, 염근영
한국재료학회 2017년 봄 학술대회
1 Run-to-Run Control of Inductively Coupled C2F6 Plasma Etching of SiO2: Multivariable Controller Design and Numerical Application
서승택, 이광순, 양대륙, 최범규
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회