| 번호 | 제목 |
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Comparative Study on the Electrical Characteristics between Gate-First and Gate-Last Like Processed MOS Devices Hoon Hee Han, Donghwan Lim, Yu-Rim Jeon, Jae Ho Lee, Changhwan Choi 한국재료학회 2017년 봄 학술대회 |
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Electrical Characterization of Atomic Layer Deposited La2O3 Capped HKMG Devices 임동환, 정우석, 최창환 한국재료학회 2014년 가을 학술대회 |
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The Characterization of N-channel Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect-Transistor (nMOSFET) with Sputtered SrTiO3-Doped HfO2 Gate Dielectrics 최창환 한국재료학회 2010년 가을 학술대회 |
