화학공학소재연구정보센터
번호 제목
4 The Characteristics of Field Effect Transistor using Tin Disulfide by Atomic Layer Deposition
Giyul Ham, Seokyoon Shin, Juhyun Lee, Namgue Lee, Hyeongtag Jeon
한국재료학회 2017년 봄 학술대회
3 Al2O3 Thin Film Encapsulation by Spatial Atomic Layer Deposition
Seokyoon Shin, Giyul Ham, Joohyun Park, Juhyun Lee, Hyeongsu Choi, Sejin Kwon, Hyeongtag Jeon
한국재료학회 2017년 봄 학술대회
2 Al2O3 Thin Film Encapsulation by Ozone-based Atomic Layer Deposition
Seokyoon Shin, Giyul Ham, Joohyun Park, Juhyun Lee, Hyeongsu Choi, Seungjin Lee, Sejin Kwon, Hyeongtag Jeon
한국재료학회 2016년 가을 학술대회
1 The effects of Al2O3 passivation with HfO2 as a buffer layer on a-IGZO TFTs
Heewang Yang, Hagyoung Choi, Joohyun Park, Seokyoon Shin, Giyul Ham, Sanghun Lee, Hyeongtag Jeon
한국재료학회 2012년 가을 학술대회