| 번호 | 제목 |
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| 5 |
High density plasma reactive ion etching of Co2MnSi thin films using a CH3OH/Ar gas mixture for magnetic random access memory applications 아드리안, 최지현, 황수민, 정지원 한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
| 4 |
Comparison of etch characteristics of Ru thin films using CH3OH/Ar and CH4/O2/Ar plasmas 황수민, 아드리안, 최지현, 정지원 한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
| 3 |
Etch Characteristics of Magnetic Tunnel Junction Stacks in a O2/Ar Plasma 이일훈, 이태영, 정지원 한국화학공학회 2012년 봄 학술대회 |
| 2 |
HBr/Cl2/Ar 가스를 이용한 나노미터 크기의 Magnetic Tunnel Junction의 식각 특성 민수련, 조한나, 노수진, 리유에롱, 정지원 한국공업화학회 2007년 가을 학술대회 |
| 1 |
SiO2 hard mask를 이용한 자성 박막의 건식 식각 송영수, 신 별, 정지원 한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
