| 번호 | 제목 |
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Two-step photoresist stripping process on GaAs surface 임상우, 이승효, 오은석 한국화학공학회 2015년 가을 학술대회 |
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초임계 이산화탄소 내에서의 염기성 공용매와 초음파를 이용한 HDI 포토레지스트 제거 정재목, 김상재, 임권택 한국공업화학회 2009년 가을 학술대회 |
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전자소자기술을 위한 in-situ 저압 UV-O2/O3 스트리핑 공정변수에 대한 연구|Process Variables of in-situ Low Pressure UV-O2/O3 Stripping for Electronic Device Technology 선민철, 권성구, 김도현|Min Cul Sun, Sung Ku Kwon, Do Hyun Kim 한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
