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군집 분석 기법을 통한 플라즈마 식각 공정의 식각 종말점 검출
이성현, 채희엽, 최호준, 김재현
한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
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플라즈마 처리를 통해 향상된 신뢰성을 갖는 박막 트랜지스터 기반 플래시 메모리 소자 연구
장석민
한국재료학회 2021년 가을 학술대회 |
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3D NAND 구조내의 Si3N4의 선택적 식각을 통한패턴 SiO2 식각 제어
손창진, 김태현, 박태건, 임상우
한국화학공학회 2021년 봄 학술대회 |
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First principles study on selective etching of silicon nitride over silicon dioxide by phosphoric acid
박소용, 정현욱, 김준엽, 한병찬
한국재료학회 2021년 봄 학술대회 |
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Pressureless Sintered Silicon Nitride Ceramics with Controlling α-β Ratio for Self-reinforcement
Jung Hoon Kong, Ho Jin Ma, Wook Ki Jung, Do Kyung Kim
한국재료학회 2021년 봄 학술대회 |
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Atomic Level Patterning Process of SiO2 Thin Films for Advanced Nanoelectronics
Jinseon Lee, WooheeKim, Tae Joo Park
한국재료학회 2020년 봄 학술대회 |
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Enhanced Selectivity of Atomic Layer Deposited Ru Thin Films through the Discrete Feeding of Vapor-Phase Inhibitor
Jeong-Min Lee, Ji Won Han, Tae Joo Park, Woo-Hee Kim
한국재료학회 2020년 봄 학술대회 |
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비인산계 용액 내 Si3N4/SiO2 선택적 식각 반응 및 첨가제의 영향 연구
손창진, 임상우
한국화학공학회 2019년 가을 학술대회 |
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3D NAND에서 Si3N4 선택적 식각 중 발생하는 산화물 재성장 현상 연구
김태현, 손창진, 박태건, 임상우
한국화학공학회 2019년 가을 학술대회 |
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인산 기반 용액을 이용한 Si3N4/SiO2 선택적 식각의 고온에서의 경향 연구
박태건, 김태현, 손창진, 임상우
한국화학공학회 2019년 가을 학술대회 |
